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无掩膜曝光机型号 ds-2000/1.0型 1．技术特征采用dmd作为数字掩模，像素1024×768 采用1倍缩小投影光刻物镜成像，一次曝光面积约14mm×10mm 采用专利技术——积木错位蝇眼透镜实现均明。采用进口精密光栅、进口电机、进口导轨、进口丝杠实现精确工件定位和曝光拼接，可适应100mm×100mm基片。 2．技术参数光源：350w球形汞灯（曝光谱线： i线）；照明均匀性：±2%；物镜倍率：1倍曝光场面积：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm 工件台运动范围：x：100mm、 y：100mm；工件台运动定位精度：±1.5μm；调焦台运动灵敏度：1μm；调焦台运动行程：6mm 转动台行程：±6°以上基片尺寸外径: ф15mm—ф100mm，厚度：0.1mm--5mm 3．外形尺寸：840mm（长）×450mm(宽) ×830mm（高）

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